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金屬表面抛光液如何運用?

責任編輯:研磨液  發布時間:2016-11-09
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抛光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性抛光劑,具有良好的去油汙,防鏽,清洗和增光性能,並能使金屬制品超過原有的光澤。抛光液廠家生産的産品性能穩定、無毒,對環境無汙染等作用,光液使用方法:包括棘輪扳手、開口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺絲刀等,鉛錫合金、鋅合金等金屬産品經過研磨以後,再使用抛光劑配合振動研磨光飾機,滾桶式研磨光式機進行抛光;

抛光液的分類:
抛光液的主要産品可以按主要成分的不同分爲以下幾大類:金剛石抛光液(多晶金剛石抛光液、單晶金剛石抛光液和納米金剛石抛光液)、氧化矽抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化鋁抛光液和碳化矽抛光液等幾類。

1.多晶金剛石抛光液:
多晶金剛石抛光液以多晶金剛石微粉爲主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質産生劃傷。
主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和抛光。

2.氧化矽抛光液:
氧化矽抛光液(CMP抛光液)是以高純矽粉爲原料,經特殊工藝生産的一種高純度低金屬離子型抛光産品。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化抛光,如:矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化镓、磷化铟,精密光學器件、藍寶石片等的抛光加工。

3.氧化铈抛光液:
氧化铈抛光液是以微米或亞微米級CeO2爲磨料的氧化铈研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。
適用于高精密光學儀器,光學鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密抛光。

4.氧化鋁和碳化矽抛光液:
是以超細氧化鋁和碳化矽微粉爲磨料的抛光液,主要成分是微米或亞微米級的磨料。
主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和抛光。

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